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1 FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais Manfredo H. Tabacniks outubro 2006 Universidade de São Paulo Instituto de Física

FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

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Universidade de São Paulo Instituto de Física. FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais. Manfredo H. Tabacniks outubro 2006. OUTUBRO. NOVEMBRO. PIXE Particle Induced X-ray Emission ED-XRF Energy Dispersive X-Ray Fluorescence. WD-XRF - PowerPoint PPT Presentation

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1

FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

Manfredo H. Tabacniksoutubro 2006

Universidade de São PauloInstituto de Física

Page 2: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

2

10/10 FI-1 Revisão: Interação de fótons (raios-X) com a matéria para análise elementar:Absorção e emissão de raios-X característicos.Interação de íons energéticos com a matéria: Poder de freamento, excitaçãoeletrônica, espalhamento elástico.

17/10 FI-2 Raios-X para análise elementar: Fundamentos dos métodos XRF e PIXE.Análise qualitativa e quantitativa elementar.

24/10 FI-3 Instrumentação, bases de dados e softwares para análise e simulação deespectros de raios X. Exemplos e exercícios.

23/10 (tarde)27/10 (tarde)

Laboratório PIXE no LAMFI

31/10 FI-4 Fundamentos da Espectrometria de Retroespalhamento Rutherford, RBS.Análise e interpretação de espectros RBS

OUTUBRO

7/11 FI-5 Instrumentação, bases de dados e softwares para análise e simulação deespectros RBS. Exemplos e exercícios.

6/11 (tarde)10/11 (tarde)

Extra Laboratório RBS no LAMFI

14/11 FI-6 Aplicações avançadas: Difusão em filmes finos, rugosidade, filmesmulticamada e multielementares; análise PIXE de amostras espessas.Análises PIXE em feixe externo.

21/11 FI-7 Apresentação e discussão pública dos resultados das análises PIXE e RBS.28/11 FI-8 PROVA: Métodos de análise com feixes iônicos e com raios-X

NOVEMBRO

Page 3: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

3

PIXEPIXEParticle Induced X-ray EmissionParticle Induced X-ray Emission

ED-XRFED-XRFEnergy Dispersive X-Ray FluorescenceEnergy Dispersive X-Ray Fluorescence

• Tabacniks, Manfredo Harri. Análise de Filmes Finos por PIXE e RBS. São Paulo: Instituto de Física da USP, 2000.

• Jim Heiji Aburaya, Padronização de Análises PIXE de Amostras Sólidas em Alvos Espessos, Dissertação de Mestrado, IFUSP 2005

• Virgílio F. Nascimento Filho, Técnicas Analíticas Nucleares De Fluorescência de Raios X por Dispersão de Energia (ED-XRF) e por Reflexão Total (TXRF), Julho/99

WD-XRFWavelength Dispersive...

Page 4: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

4Adaptado de Govil, I. M., Current Science, Vol. 80, No. 12, 25 June 2001

Partícula incidente

Raio X

PIXE - XRF Princípios Básicos

ionização emissãode Rx

emissãode e-Auger

transiçãoKoster-Krönig

eX

X

NNN

rendimento fluorescente

Page 5: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

5

Raio X

1. Ionização da camada K

2. Emissão de raio X

3. Elétrons Auger

4. Transição de Koster-Kroning

1.2.

4.

transições de dipolo

js

0

sjjs

1,00

Page 6: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

6

Equação Geral do PIXEEquação Geral do PIXEPIXE de Alvos FinosPIXE de Alvos FinosPIXE de Alvos EspessosPIXE de Alvos Espessos

Equações do PIXEEquações do PIXE

Page 7: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

7

PIXEarranjo experimental

Page 8: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

8

partícula incidenteenergia E0

fótonemergente

zh

d

detector Si(Li) eabsorvedores

idvE, (E)

Xi

S(E) i

ou raio-X

Geometria experimental: PIXE ou ED-XRF

dxdydzzTyxnEdN nXX )(),()(4

Page 9: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

9

dzzdxdyTyxnEdN nXi

)(),()(4

Equação geral do PIXE

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos4

´´´´cos

0

Ângulo sólido de detecçãoEficiência de detecção Auto absorção de raios X

Quantidade de partículas incidentesConcentração elementar

Seção de choque de produção de raios XFreamento das partículas incidentes

Energia inicial das partículas incidentes

Quantidade de raios X detectados

Page 10: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

10

Equação geral do PIXEEquação geral do PIXE

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos4

´´´´cos

0

Ângulo sólido de detecçãoEficiência de detecção Auto absorção de raios X

Quantidade de partículas incidentesQuantidade de partículas incidentesConcentração elementar

Seção de choque de produção de raios XFreamento das partículas incidentes

Energia inicial das partículas incidentes

Quantidade de raios X detectadosQuantidade de raios X detectados

Page 11: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

11

Equação geral do PIXEEquação geral do PIXE

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos4

´´´´cos

0

Ângulo sólido de detecçãoÂngulo sólido de detecçãoEficiência de detecçãoEficiência de detecção Auto absorção de raios X

Quantidade de partículas incidentesConcentração elementar

Seção de choque de produção de raios XFreamento das partículas incidentes

Energia inicial das partículas incidentesEnergia inicial das partículas incidentes

Quantidade de raios X detectados

Page 12: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

12

Equação geral do PIXEEquação geral do PIXE

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos4

´´´´cos

0

Ângulo sólido de detecçãoEficiência de detecção Auto absorção de raios XAuto absorção de raios X

Quantidade de partículas incidentesConcentração elementarConcentração elementar

Seção de choque de produção de raios XSeção de choque de produção de raios XFreamento das partículas incidentesFreamento das partículas incidentes

Energia inicial das partículas incidentes

Quantidade de raios X detectados

Page 13: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

13

PIXE de Alvos FinosPIXE de Alvos Finos

Auto absorção de raios X desprezívelAuto absorção de raios X desprezível

E

E

ESdE

X dEES

eEE

Ei

i

0

'

0

')'(

)'( )''(''

sincos

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14

E

E

ESdE

X dEES

eEE

Ei

i

0

'

0

')'(

)'( )''(''

sincos

PIXE de Alvos FinosPIXE de Alvos Finos

Auto absorção de raios X desprezívelAuto absorção de raios X desprezível

1

Page 15: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

15

PIXE de Alvos FinosPIXE de Alvos Finos

E

E

X dEESE

i

0

')'(

1).'( )( 0E

iX

)(1

ESdEdz

Freamento das partículas incidentes desprezível: E(z)Freamento das partículas incidentes desprezível: E(z)EE00

Page 16: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

16

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos4

´´´´cos

0

Equação geral do PIXE

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17

nX

nii E

AN

eqQn

i

00

cos4

Equação do PIXE de Alvos Finos

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos4

´´´´cos

0

Equação geral do PIXE

Page 18: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

18

nX

nii E

AN

eqQn

i

00

cos4

nii Qrn 00

cos1

4E

eqANr

iXn

ii

Equação do PIXE de Alvos Finos

Equação reduzida Fator de resposta

Arranjo Experimental

Fator de resposta

Medidas Experimentaisg/cm2]

Page 19: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

19

Resumo Gráfico: Calibração e Limites de Detecção

Calibração PIXE (alvo fino)Rendimento efetivo PIXE e RBS

Limites de Detecção Discriminação de elementos vizinhos

1 0 2 0 3 0 4 0 5 0

0 . 0 1

0 . 1

1

1 0

D e t e c t o r d e b a i x a e n e r g i a

D e t e c t o r d e a l t a e n e r g i a

P I X E - S P : K r e n d i m e n t o e f e t i v o ( c m ² / µ C / n g )

N ú m e r o a t ô m i c o

Page 20: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

20

1invisíveisdetectados

k

i

m

j

Análise PIXE não detecta os elementos com Z<11

dosdesconhecis

i

conhecidosr

i

invisíveisk

i

Uma fração dos elementos não detectados pode ser estimada...

...mas isso não basta para uma solução única da integral:

E

E

ESdE

sen

X

n

nii dE

ESeE

AN

eqQN

E

E

i

i

0

´

0

´´.

´cos4

´´´´cos

0

O problema dos elementos “invisíveis”

Page 21: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

21

PIXE de Alvos EspessosPIXE de Alvos Espessos

Equação reduzida

Fator de resposta

n

ii QRN

E

E

ESdE

sen

X

nii dE

ESeE

eqANR

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos1

4

´´´´cos

0

Medidas Experimentais

Arranjo Experimental

g/g]

Page 22: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

22

Fator de CorreçãoFator de Correção

00

cos1

4E

eqANr

iXn

ii

i

ii r

RF

E

E

ESdE

sen

X

nii dE

ESeE

eqANR

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos1

4

´´´´cos

0

alvoespesso

alvofino

00

´´´´cos

0

cos1

4

´´

´cos1

40

´

0

EeqA

N

dEES

eEeqA

N

F

i

E

E

i

i

Xn

i

E

E

ESdE

sen

X

ni

i

Page 23: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

23

Fator de CorreçãoFator de Correção

00

cos1

4E

eqANr

iXn

ii

i

ii r

RF

00

´´´´cos

0

cos1

4

´´

´cos1

40

´

0

EeqA

N

dEES

eEeqA

N

F

i

E

E

i

i

Xn

i

E

E

ESdE

sen

X

ni

i

E

E

ESdE

sen

X

nii dE

ESeE

eqANR

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos1

4

´´´´cos

0

alvoespesso

alvofino

Page 24: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

24

Fator de CorreçãoFator de Correção

00

cos1

4E

eqANr

iXn

ii

i

ii r

RF

E

E

ESdE

sen

X

nii dE

ESeE

eqANR

E

E

i

i

0

´

0

´´

´cos1

4

´´´´cos

0

alvoespesso

alvofino

E

E

ESdE

sen

X

Xi dE

ESeE

EF

E

E

i

i

i 0

´

0

´´

´1´´´´cos

0

Page 25: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

25

Fator de CorreçãoFator de Correção

E

E

ESdE

sen

X

Xi dE

ESeE

EF

E

E

i

i

i 0

´

0

´´

´1´´´´cos

0

Matriz da amostra

Page 26: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

26

Bases de DadosBases de Dados

Seção de choque de produção de raios-XSeção de choque de produção de raios-X Razão de intensidades KRazão de intensidades K/K/K Rendimento de FluorescênciaRendimento de Fluorescência Seção de Choque de IonizaçãoSeção de Choque de Ionização

Poder de FreamentoPoder de Freamento Absorção de Raios XAbsorção de Raios X

Page 27: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

27

Seção de Choque de Produção de Raios X

Correspondente à emissão de K

Razão de intensidades K/K

Rendimento de Fluorescência

Seção de Choque de Ionização

EbE Ki

KiiX i

JOHANSSON, S. A. E.; CAMPBELL, J. L. (1988).

Page 28: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

28

SCOFIELD, J. H. Exchange corrections of K x-ray emission rates, SCOFIELD, J. H. Exchange corrections of K x-ray emission rates, Phys. Ver. APhys. Ver. A, 9, 1041, 1974., 9, 1041, 1974. PERUJO, J. A. et al. PERUJO, J. A. et al. Deviation of KDeviation of K/K/K intensity ratio from theory observed in proton-induced x-ray intensity ratio from theory observed in proton-induced x-ray

spectra in the 22spectra in the 22ZZ32 region, 32 region, J. Phys. BJ. Phys. B, 20, 4973, 1987., 20, 4973, 1987.

Razão de Intensidades K/K

Rendimento fluorescente BAMBYNECK, W. in Johanssen & Campbell, PIXE a novel Technique for Elemental Analysis, John BAMBYNECK, W. in Johanssen & Campbell, PIXE a novel Technique for Elemental Analysis, John

Wiley and Sons, 1988. Wiley and Sons, 1988.

3

0

4/1

1 n

nn

K

K Zb

BRANDT, W.; LAPICKI G. BRANDT, W.; LAPICKI G. Phys. Rev. APhys. Rev. A, 20, 465, 1979., 20, 465, 1979. BRANDT, W.; LAPICKI G. BRANDT, W.; LAPICKI G. Phys. Rev. APhys. Rev. A, 23, 1717, 1981., 23, 1717, 1981. JOHANSSON, S. A. E.; JOHANSSON, T. B. JOHANSSON, S. A. E.; JOHANSSON, T. B. Nucl. Instr. And Meth.Nucl. Instr. And Meth., 137,476, 1976., 137,476, 1976.

Seção de choque de ionização

Absorção de raios-XBERGER, M. J.; HUBBELL, J. H. XCOM Photon Cross Sections on a Personal Computer, Gaithersburg: Center for Radiation Research NBS (National Bureau of Standards), 1988.

Page 29: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

29

A probabilidade P1 da radiação de excitação atingir a camada dx a uma profundidade x e ângulo de incidência 0:

o x/sen ..1

0eP

XRF - Formulação básicaExcitação monocromática

A probabilidade P2 da radiação de excitação produzir uma vacância nos átomos de um elemento de interesse contidos na camada dx, com consequente produção de raios X característicos:

dx..b.j11..P2 ni

jump ratioseção de choque para efeito fotoelétrico

razão de emissão da linha i

elemento medido

matriz (meio)

Page 30: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

30

Probabilidade de ionizar elétron das camadas L,M,N...

Probabilidade de ionizar elétron das camadas K, L,M,N...

Jump Ratio (Razão de salto)

...,

..,,jML

MLKK

j11 K

Page 31: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

31

A probabilidade P3 do raio X K característico produzido na camada dx atingir o detector e ser detectado:

.eP /x..3

sen

sensenn

0

0definindo :

rx incidenterx característico

.e.dx...fj11w...e.GdI /x../x..0 sen

nsen o

A intensidade fluoresente dI é

dada por :

fator geométrico

K

dx..e.K..GdI x..n

.1..K..GI

D..

en

Concentração elementar relativa

XRF - Formulação básica

Page 32: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

32

.1..K..GI

D..

en

Concentração elementar relativa

Sensibilidade

DeDS n ..

1..ID..

XRF - Formulação básica

Densidade superficial

Amostra fina 1..

1 D..

De

Amostra espessaDD

e..

1..

1 D..

Page 33: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

33

PIXE x XRF

Page 34: FAP5844 - Técnicas de Raios-X e de feixe iônico aplicados à análise de materiais

34

PIXE x XRF Limites de detecção

PIXE PIXE x XRF

Geological samples (pellets)Ext. PIXE H+, 2.5MeV, 50nAXRF (Fe, Mo, Sm) 1 min, 2000 cps.Malmqwvist, NIM B22 (1987) 386