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INSTITUTO POLITÉCNICO NACIONAL PRODUCTOS Y SERVICIOS CENTRO DE NANOCIENCIAS Y MICRO Y NANOTECNOLOGÍAS Ataque por iones reactivos (RIE) Descripción Aplicacione s Resultados Beneficios Contacto CENTRO DE NANOCIENCIAS Y MICRO Y NANNOTECNOLOGÍAS [email protected] El RIE es una técnica de ataque en seco que combina efectos físicos y químicos para remover materiales semiconductores así como materiales depositados en la superficie de los substratos mediante la generación de plasma a partir de gases. Ataque o grabado de silicio. Ataque de dieléctricos como óxido de silicio (SiO2) o nitruro de silicio (Si3N4). Ataque de polímeros como resinas fotosensibles entre otros. Maquinado para la fabricación de micro y nano sistemas electromecánicos. Desarrollo de microcanales. Obtención de micro- estructuras como cantiléver o membranas. Evita ataques isotrópicos. Dr. Jacobo Esteban Munguía Cervantes [email protected] Tel. 57296000 Ext. 57513 Substra to

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INSTITUTO POLITÉCNICO NACIONAL

PRODUCTOS Y SERVICIOS

CENTRO DE NANOCIENCIAS Y MICRO Y NANOTECNOLOGÍAS

Ataque por iones reactivos (RIE)

Descripción

Aplicaciones

Resultados

Beneficios

Contacto

CENTRO DE NANOCIENCIAS Y MICRO Y NANNOTECNOLOGÍ[email protected]

El RIE es una técnica de ataque en seco que combina efectos físicos y químicos para remover materiales semiconductores así como materiales depositados en la superficie de los substratos mediante la generación de plasma a partir de gases.

• Ataque o grabado de silicio.

• Ataque de dieléctricos como óxido de silicio (SiO2) o nitruro de silicio (Si3N4).

• Ataque de polímeros como resinas fotosensibles entre otros.

• Maquinado para la fabricación de micro y nano sistemas electromecánicos.

• Desarrollo de microcanales.• Obtención de micro-estructuras

como cantiléver o membranas.

• Evita ataques isotrópicos.

Dr. Jacobo Esteban Munguía [email protected]. 57296000 Ext. 57513

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