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UNIVERSIDAD NACIONAL DE TRUJILLO

FACULTAD DE INGENIERA

INGENIERA DE MATERIALES

LAB. 3: Sntesis del NiO por el Mtodo de Sol-Gel

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Sntesis del ZnO por el Mtodo de Sol-Gel

I. Objetivos1.1Sintetizar y caracterizar nanopartculas de ZnO, por el mtodo de sol-gel,

observando la temperatura y el tiempo.

1.2

Determinar sus caractersticas texturales y evaluar la influencia del mtodo de

obtencin al compararlo con las caractersticas del ZnO comercial.

II. Materiales Placas de Si Para la limpieza

Alcohol 96 Para la Sntesis del Sol Gel

200 mg ZnAc 2 cc de Etanol 0.066 cc MPA

Equipo de agitacin magntica Cinta adhesiva

III. Procedimiento Experimental- Primero se hace una limpieza de las placas de Si con alcohol- Luego se pesa 200 mg de ZnAc y se agrega el etanol y MPA a una

temperatura ambiente, bajo una agitacin constante

- Despus se sujet la placa de Si a la pastilla del equipo con cinta adhesiva ydndole un equilibrio a la pastilla.

- Luego se coloc unas cuantas gotas sobre la placa y se procedi amantenerla bajo una agitacin constante durante unos 7 min y en la que se

observara una formacin de una fina capa en la placa de Si

- Despus se coloc la placa de Si sobre una placa de vidrio y empez acalentar a una temperatura de 60 C durante unos 20 min.

- Pasado el tiempo agregamos una segunda capa repitiendo el mismoprocedimiento.

- Se coloc la placa de Si sin la de vidrio esta vez a una temperatura de 350C20 min

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IV. AnlisisFOTOS

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V. Conclusiones- Se logr sintetizar el ZnO por el mtodo sol-gel a una temperatura relativamente

baja y con un alto grado de cristalinidad, mayor rea superficial y menor Eg

respecto al ZnO comercial. Estas diferencias en las caractersticas del slido

sintetizado por sol-gel pueden favorecer la actividad fotocataltica del ZnO, lo cual

ser comprobado en prximos experimentos fotocatalticos que se llevarn a cabo

en el laboratorio.

- La cantidad de solucin que se agrega en la capa superficial debe cubrir toda lazona para que el recubrimiento este de forma homognea.

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- Este mtodo no solo se da en placas de silicio, tambin puede darse en diferentestipos de cermicos.

- La velocidad de giro es importante para que se de el recubrimiento optimo.

VI. Bibliografa Disponible en: http://www.respyn.uanl.mx/especiales/ee-10-

2004/presentacion_de_trabajos%20_htm/04.htm. Consulta 20/09/13

Disponible en:http://www.qi.fcen.uba.ar/materias/cqi/2011/labo/presentaciones/Presentaci%F3n

%20ZnO.pdf.Consulta 20/09/13

Disponible en: http://www.qualicer.org/recopilatorio/ponencias/pdf/2012200.pdf. Consulta 20/09/13

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